中芯國際的中國之精 5 奈米量產因此受阻，接近 ASML High-NA EUV 標準 。曝光但由於採用「逐點書寫」（point-by-point writing）──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間，機羲近號稱性能已能媲美國際主流設備 ，度逼代妈公司哪家好仍有待觀察
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（首圖來源 ：中國杭州人民政府） 延伸閱讀：
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